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應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,能源,電子,交通 | | |
Kaleo MultiWave 是一臺(tái)多波長(zhǎng)工作的光學(xué)元件面形測(cè)試系統(tǒng),用于替代昂貴、低效、操作復(fù)雜的干涉儀,測(cè)量光學(xué)元件的表面面形、透過(guò)波差等參數(shù)。
Kaleo MultiWave 通過(guò)單次測(cè)量即可提供完整的3-D形貌及非平面元件的曲率。所有表面質(zhì)量參數(shù)尊崇ISO 10110標(biāo)準(zhǔn)。表面不規(guī)則,粗糙度以及波紋亦可測(cè)試。
Kaleo MultiWave*的多波長(zhǎng)測(cè)試功能可以在光學(xué)元件設(shè)計(jì)的工作波長(zhǎng)進(jìn)行測(cè)試,從而對(duì)光學(xué)元件基底、鍍膜獲得完整的評(píng)價(jià)。儀器具備和傳統(tǒng)干涉儀同等的精度,同時(shí)具備更大的動(dòng)態(tài)范圍以測(cè)試復(fù)雜面形的光學(xué)元件。測(cè)試以雙程模式工作,兼容透射與反射測(cè)量。
多波長(zhǎng)干涉儀:
同一機(jī)臺(tái),多個(gè)波長(zhǎng)
標(biāo)配:625nm - 780nm - 1050nm
可選:UV - 400nm - 1100nm - 短波紅外
高動(dòng)態(tài)范圍:
> 20um PV
高度畸變波前測(cè)試
高精度:
精度與干涉儀同等
高重復(fù)度,低噪聲
高性價(jià)比的干涉儀解決方案
規(guī)范:
遵從ISO 5725 標(biāo)準(zhǔn)
兼容MetroPro 格式
兼容 ISO 10110 格式
用途:
表面面形測(cè)試
鍍膜(AR,介質(zhì)膜,金屬膜測(cè)試......)
窗片,干涉濾光片測(cè)試
透鏡,非平面鏡測(cè)試
應(yīng)用:
光學(xué)元件研發(fā)制造
濾光片及窗片制造
空間及防務(wù)
汽車(chē)工業(yè)
激光器及其應(yīng)用
光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)xKALEO MultiWave技術(shù)指標(biāo):
光路結(jié)構(gòu) | 雙通路 |
標(biāo)準(zhǔn)配置波長(zhǎng) | 625, 780, 1050nm |
可選波長(zhǎng) | 400 - 1100nm,UV, IR |
有效口徑 | 130mm |
可重復(fù)性 (ISO 5725) | < 5nm rms |
可再造性 (ISO 5725) | <7nm rms |
動(dòng)態(tài)范圍 (失焦), RWE | 10um PV |
動(dòng)態(tài)范圍 (失焦), TWE | 200nm rms |
精度 (RWE) | <80nm rms |
精度 (TWE) | <20nm rms |
光學(xué)元件面型測(cè)量?jī)xKALEO MultiWave測(cè)試實(shí)例:
與Fizeau干涉儀測(cè)試結(jié)果的比較
NBP-780濾光片測(cè)試。二者測(cè)量RWE的偏差小于40nm P-V
非球面鏡3-D面形
單次測(cè)量,無(wú)需空白透鏡??赏ㄟ^(guò)扣除理想曲面得知面形殘余誤差,從而獲知非球面鏡的加工質(zhì)量。
產(chǎn)線設(shè)備監(jiān)控
通過(guò)對(duì)塑料、樹(shù)脂模壓光學(xué)元件的直接測(cè)試,實(shí)時(shí)獲知加工效果,對(duì)模具狀態(tài)、工件調(diào)整精度等作出實(shí)時(shí)評(píng)價(jià)。